磁控溅镀原理及应用

具体原理请查看原理of "磁控Sputtering "。一般情况是氩气是磁控溅射能产生辉光的工作气体，-0。那么你应该使用硅靶，然后引入氩气。此时Si被溅射出来，如果你同时通入氧气，涂层就会变成SIO2，因为Si离子和氧离子会反射产生SIO2或SiO。

Lab颜色模型由照度(L)和与颜色相关的三个元素A、b组成，L代表亮度，相当于亮度，A代表从品红色到绿色的范围，b代表从黄色到蓝色的范围。L的范围从0到100，当L50时，相当于50%黑；a和b的范围是 127到128，其中 127a是洋红色，逐渐过渡到128a时变成绿色；同理原理， 127b为黄色，128b为蓝色。

1。磁控溅射镀膜技术因其显著的特点而得到了广泛的应用。但是，常规溅射靶表面的横向磁场将带电粒子紧紧束缚在一起，使得一个镀膜区域的离子密度非常低，一定程度上削弱了等离子膜的优势。通过有意识地增强或减弱其中一个磁极的磁通量。磁控溅射靶的磁场是不平衡的，可以大大提高镀区的等离子体密度，从而提高镀膜质量。此外，还讨论了该技术的发展现状。

1。耐磨氧化膜用于制备薄膜磁头读写时，硬盘磁头与硬盘表面有滑动摩擦。为了减少摩擦，提高磁头的寿命，目前磁头正在向薄膜化方向发展。绝缘膜和保护膜(即AL2O3和SiO2氧化膜)是薄膜磁头的主要组成部分。对薄膜磁头耐磨膜的要求是耐冲击性好、耐磨性好、可加工性合适、加工变形小。这种薄膜通常通过反应溅射来制备。

2.硬质薄膜的制备目前广泛使用的硬质薄膜是水性镀铬。电镀会造成钢的氢脆，电镀速度慢，造成环境污染。如果使用金属Cr靶，在N2气氛中进行非平衡磁控溅射镀膜，可以在工件上镀Cr、CrNX等涂层，代替水溶液镀，用于旋转轴等运动部件。3.刀具和模具超硬涂层的制备TiN、TiC等超硬涂层采用普通化学气相沉积技术制备，温度在1000℃左右，已超过高速钢的回火温度，对于硬质合金也可能使涂层晶粒长大。

{10}

1、磁控溅射利用高频磁控 tube 原理在溅射室内引入与电场方向正交的磁场。2.在这种磁场的控制下，电子被约束在靶材附近，以螺旋轨道运动，大大提高了电子对氩原子的电离效率，增加了轰击靶材的离子流密度j ,实现了快速强流溅射。3.同时可以防止电子直接加速到衬底上，降低衬底的温升。溅射有两种类型:DC和高频。按结构分，有同轴式、平面式、S枪等多种类型。

{11}

磁控溅射技术的应用主要用于蒸镀金属薄膜(如镀铝、镀铬、镀锡、不锈钢镀等。)和彩色仿金膜，从而在塑料和陶瓷表面获得光亮、美观、廉价的金属化产品。广泛应用于工艺美术、装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女鞋鞋跟等领域，JTPZ多功能镀膜技术及设备(射频等离子聚合蒸发镀膜机)是为汽车、摩托车灯具设计的，在真空室中完成铝蒸发和射频等离子镀膜保护膜。这种镀膜灯具有“三防”功能。

用户选择在灯基板上喷涂底漆、铝膜和保护膜，或者在真空室中预处理灯基板(不喷涂底漆)、铝膜和保护膜。直接涂装在ABS、PC、PBT、PE、PP、PA66等塑料基材上，无需喷涂底漆或面漆(无需投资喷涂设备)，镀铝膜后直接镀一层保护膜，滴加1%NaOH溶液10分钟不会腐蚀铝层，铝层在去离子水中浸泡96小时也不会脱落。